等離子除臭設(shè)備：解決原理要在另加靜電場的影響下，離子發(fā)生器造成大量的顆粒與空氣中的氧原子撞擊以產(chǎn)生正空氣負(fù)離子，選用正負(fù)極雙極水解技術(shù)性。

設(shè)備上的反氧離子是具有極強的空氣氧化特性，它可以在極短的時間氧化分解污染因子而且在與VOC分子結(jié)構(gòu)接觸的時候可以開啟有機化學(xué)揮發(fā)性氣體的分子間作用力的，最終工業(yè)廢氣反映形成無害二氧化碳和水等小分子水。

可利用率金屬催化劑在紫外線的照射下造成電子空化，中短波紫外線光子是有帶上的能量，紫外線的光量子能夠躍遷有機物的分子鏈，設(shè)備上的金屬催化劑表面吸咐水造成羥基自由基，或者能使四周的氧還原成活力正離子氧，此刻是具有極強的氧化還原反應(yīng)的能力，它能將納米二氧化鈦表面的各類污染物質(zhì)溶解。

二種廢氣凈化設(shè)備之間的差別取決于：

機器設(shè)備所采用的解決原理不一樣，正離子除臭設(shè)備能將大部分機械能轉(zhuǎn)化成污染物質(zhì)分子的可以，光氧除臭設(shè)備在較高能高臭氧紫外線光線生成空氣中的氧原子造成游離氧。

針對帶有有機化學(xué)類惡臭味成份、較低濃度的及其帶有餐飲業(yè)廚房油煙氣味的有機廢氣可以用UV光氧催化催化反應(yīng)機器設(shè)備，針對生產(chǎn)車間、污水站、垃圾除臭、家用新風(fēng)系統(tǒng)、工廠等地方所產(chǎn)生的有機廢氣可以用等離子除臭設(shè)備。